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釉上彩和釉下彩是陶瓷裝飾中兩種核心工藝，其工藝流程、顏料特性及裝飾效果差異顯著。以下從工藝步驟、技術(shù)要點(diǎn)及對(duì)比解析三方面詳細(xì)說明：

一、釉下彩制作工藝流程與解析

工藝流程（以青花瓷為例）

坯體制備與處理

坯體經(jīng)成型（拉坯、注漿等）后，自然干燥至含水率 10% 左右，進(jìn)行素?zé)囟燃s 800℃），增強(qiáng)坯體強(qiáng)度，便于后續(xù)繪畫。

素?zé)笈黧w表面打磨光滑，去除毛刺，確保繪畫時(shí)顏料附著均勻。

釉下彩繪

顏料調(diào)配：以礦物顏料為主（如鈷料、氧化鐵、氧化銅等），用清水或植物膠（如桃膠水）調(diào)和，顏料顆粒需細(xì)膩，避免堵塞畫筆。

繪畫技法：直接在素?zé)黧w上勾線、填色，需注意筆觸輕重，因后續(xù)施釉可能導(dǎo)致顏料輕微暈染，故線條需提前規(guī)劃耐釉性。

典型案例：青花瓷以鈷料繪制圖案，鈷料在高溫下呈穩(wěn)定藍(lán)色，不受釉層影響。

施釉工藝

根據(jù)坯體形狀選擇施釉方法：小型器物用浸釉，大型器物用噴釉或刷釉，釉層厚度控制在0.5-1mm，過厚易流釉，過薄則遮蓋力不足。

釉料需與坯體膨脹系數(shù)匹配，避免燒制時(shí)開裂（如長(zhǎng)石釉、石灰釉常用作釉下彩釉）。

高溫?zé)?/span>

入窯燒制溫度通常為1200-1350℃，氧化焰或還原焰氛圍（如青花瓷用還原焰使鈷料呈色更鮮艷）。

升溫曲線需控制：低溫階段（0-600℃）緩慢升溫排盡坯體水分，高溫階段（1000℃以上）保溫使釉料熔融玻化，冷卻時(shí)避免急冷導(dǎo)致釉面開裂。

工藝要點(diǎn)解析

顏料耐高溫性：釉下彩顏料需耐 1200℃以上高溫，顏料中的金屬氧化物（如鈷、鐵、銅）在高溫下與釉層反應(yīng)形成穩(wěn)定色釉。

釉層與顏料的結(jié)合：釉料熔融后需完全覆蓋顏料層，形成 “顏料 - 釉層 - 坯體” 三層結(jié)構(gòu)，因此釉料流動(dòng)性和熔融溫度需與顏料匹配。

裝飾效果：釉下彩圖案被釉層覆蓋，表面光滑耐磨，適合日用瓷（如碗、盤），但顏色受高溫影響可能略變，需提前試燒校準(zhǔn)色階。

二、釉上彩制作工藝流程與解析

工藝流程（以五彩瓷為例）

基礎(chǔ)瓷胎準(zhǔn)備

先燒制完成釉燒瓷胎（溫度 1200-1300℃），瓷胎表面釉層完全?；饣瑘?jiān)硬，作為釉上彩的基底。

釉上彩繪

顏料制備：顏料以金屬氧化物（如金、銀、鐵、銻等）與助熔劑（鉛丹、硼砂）混合制成，助熔劑降低顏料熔融溫度（約 700-900℃），使顏料能在低溫下熔融附著于釉面。

調(diào)色與繪畫：用膠水（如甘油、桃膠水）調(diào)和顏料，可直接在釉面上繪制精細(xì)圖案，顏色鮮艷豐富（如礬紅、古彩綠、黃彩等），因無(wú)需耐高溫，顏料可選范圍更廣。

貼花工藝：現(xiàn)代工藝中常用釉上彩花紙（將圖案印刷在轉(zhuǎn)印紙上），通過水轉(zhuǎn)印或熱轉(zhuǎn)印貼于瓷胎表面，操作效率高。

低溫烤花

入窯進(jìn)行二次燒制，溫度700-900℃，保溫 30-60 分鐘，使顏料中的助熔劑熔融，與釉面形成機(jī)械附著或微弱化學(xué)結(jié)合。

烤花時(shí)需控制升溫速率（約 5-10℃/ 分鐘），避免瓷胎與顏料熱脹系數(shù)差異導(dǎo)致剝落或爆彩。

工藝要點(diǎn)解析

顏料附著力：釉上彩顏料靠助熔劑熔融后 “黏附” 在釉面上，結(jié)合力弱于釉下彩，故表面易磨損，不適合頻繁摩擦的器皿。

顏色穩(wěn)定性：低溫顏料色彩更鮮亮（如粉色、紫色等高溫下易分解的顏色只能用釉上彩表現(xiàn)），但長(zhǎng)期接觸酸堿物質(zhì)可能褪色，需避免用于盛放腐蝕性液體。

工藝靈活性：釉上彩可在成品瓷上補(bǔ)繪或修改，適合復(fù)雜圖案和個(gè)性化創(chuàng)作，如琺瑯彩、粉彩等精細(xì)裝飾工藝均屬于釉上彩范疇。

三、工藝注意事項(xiàng)

釉下彩：需提前測(cè)試顏料與釉料的相容性，避免高溫下顏料暈散或釉面氣泡；施釉時(shí)確保均勻，否則可能露胎或顏色不均。

釉上彩：烤花溫度不可超過釉燒溫度，以免釉面軟化變形；顏料層不宜過厚，否則冷卻時(shí)易開裂；含鉛顏料需控制用量，避免用于餐具（現(xiàn)代工藝已逐步使用無(wú)鉛顏料）。